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钇铁石榴石薄膜结构及制备方法

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
钇铁石榴石薄膜结构，属于电子材料领域，它特别涉及钇铁石榴石薄膜材料的射频磁控溅射制备方法。本发明包括Ｓｉ基片和其上的钇铁石榴石薄膜层，在Ｓｉ基片和钇铁石榴石薄膜层之间还有ＣｅＯ↓［2］过渡层。本发明具有以下优点：薄膜的表面得到很大程度的改善，表面粗糙度明显减小。薄膜的饱和磁化强度和剩余磁化强度提高，矫顽力下降。...
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