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一种脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜的方法

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明涉及一种脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜的方法，属于氧化钒薄膜制备技术。包括：
　　1、玻璃和覆盖氧化硅层的硅片表面清洗；
　　2、采用脉冲反应磁控溅射制备氧化钒薄膜：预抽真空度＜1×10-4Pa，氩氧气氛中氩气与氧气的流量比为100：2.5～3.5，在脉冲直流电源脉冲频率为100～350KHz、占空比为100%～55%、溅射功率为150～250W条件下，溅射15～...
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