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一种锐角金属图形制作方法

2017年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

　　本发明涉及半导体制作技术领域，具体涉及一种锐角金属图形制作方法，包括以下步骤：
　　S1、在锐角缺损的金属图形上采用PECVD反应生长硅化物层；
　　S2、在所述硅化物层上涂覆光刻胶，采用光刻显影定义出硅化物层的打开位置；
　　S3、根据所述打开位置，采用刻蚀方式打开硅化物层，定义出锐角位置，锐角位置的两个自由端与锐角缺损的金属图形部分重叠；
　...

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