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一种硒气压可控的铜铟镓硒薄膜硒化装置

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　一种可控制硒气压的制备铜铟镓硒薄膜的硒化装置，该硒化装置由石英腔体、真空系统、气体流量控制系统、加热系统和石墨盒构成，其特征在于，石墨盒上除了常规的上盖以外，还在上盖中间开孔，并在此开孔中放置一个圆锥体型小盖子，通过改变小盖子质量和开孔面积可以调节石墨盒内的硒气压。本发明的优点在于：装置提高了铟镓硒薄膜固态源硒化过程的可控性、稳定性和重复性。...
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