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一种基于化学机械抛光工艺的铟柱制备方法

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明的目的是提供一种铟柱制备方法，主要解决焦平面器件的铟柱平整 度和致密性的问题。 为实现上述目的，本发明首先采用常规的光刻工艺制备铟孔；然后利用热 蒸发在样品表面镀上一层铟膜，此时必须保证所镀铟膜的厚度大于光刻胶的厚 度，这时再采用化学机械抛光的方法对整个铟膜进行减薄抛光，直至光刻胶上 方的铟膜完全去除；最后进行光刻胶掩模剥离，得到成形的铟柱。
　　本发明的目的是在焦平面器...
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