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基于横向剪切干涉结构的光学元件面形的测量方法

2015年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

一种基于横向剪切干涉结构的成像系统像差的测量方法，测量系统包括光源、针孔掩模、剪切光栅、双窗口掩模、光电探测器和计算机，测量时将待测成像系统置于所述的针孔掩模和剪切光栅之间，测量步骤如下：
①获取x方向和y方向的横向剪切干涉图；
② 获取x方向和y方向的差分波前；
③ 利用模式法重建波前，获取区域法重建的初始值；
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