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干涉测量光学材料均匀性的方法

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
一种干涉测量光学材料均匀性的方法，将光学材料加工成前后表面具有一定的夹角α的样品，利用干涉仪通过五次波面测量，然后计算得到样品的光学均匀性，为绝对测量结果。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量。本发明要解决的技术问题在于克服上述已有技术困难，提供一种干涉测量光学材料均匀性的方法，通过五次波面测量，计算得到样品的光学均匀性。特别适合于待测元件超过干涉仪测试口径的大口径元件测量...
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