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IC光刻曝光用精密紫外光学薄膜器件

2015年

应用技术

中期阶段

成果简介

简要技术说明：
本项目通过解决精密光学玻璃非球面加工技术、非球面面形检测分析技术、紫外光谱优化设计技术、高耐温、宽带紫外反射膜镀制技术、大尺寸深曲面光学器件洗净技术等关键技术难题，获得了面形精度、光谱性能、环境适应性达到技术要求的IC光刻曝光用精密紫外光学薄膜器件。产品的各项技术指标与日本KOKUSAI公司产品一致，填补了国内行业技术空白。

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