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极大规模集成电路制造装备及成套工艺

2015年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本项目将以市场为导向，以创新为动力，以产品和技术革新为突破口进行创新发展；产、学、研、用相结合，在国家重大专项方针的指引下，重点对立式氧化炉设计进行技术攻关。
项目进行过程中，将对关键工艺进行研究，攻克各个技术难点，突破关键技术，使所研发的产品满足300mm集成电路生产线工艺设备的要求。
立式氧化炉满足90nm及65nm工艺中的氧化及退火工艺的要求，...
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