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深度光刻计算机模拟

2004年 基础理论
  • 成果简介
本项目研究了深度同步辐射光刻和紫外光刻的计算机模拟。在以前的光刻计算机模拟中，主要研究光刻胶厚度小于1微米的光刻计算机模拟。随着微电子机械的发展，人们希望进行几百微米甚至毫米量级厚的光刻胶的刻蚀，对于几百微米和毫米量级厚的光刻胶光刻图形的计算机模拟还每有见报道。计算机光刻模拟对光刻工艺研究具有重要的指导意义。同时也为微电子机械设计提出理论依据。
本项目提出了类菲涅尔模型...
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