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SiGe异质外延体系在高温氧化、退火中的应变研究（中科院）

2004年

基础理论

成果简介

⑴研究Si/Si1－xGex/Si（100）异质体系在高温氧化后外延层的应变变化及表面与界面的状态的改变。
⑵研究氧化过程是怎样影响Si/Si1－xGex/Si（100）异质体系SiGe合金应变层的弛豫和Si、Ge原子的扩散。
⑶研究Si/Si1－xGex/Si（100）异质体系中外延Si1－xGex层中的应变在氧化、退火后造成外延SiGe合金层电学...

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