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基于金诱导非晶硅结晶的低温键合方法

2014年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本发明提供一种基于金诱导非晶硅结晶的低温键合方法,首先在上基板的键合面上制备出氧化硅层,在氧化硅层上依次蒸发或溅射出钛、金膜,并去除非键合区域的钛、金膜;其次在下基板的键合面上制备出氧化硅层及非晶硅层,在非晶硅层上依次蒸发或溅射钛、金膜,并去除非键合区域的所述非晶硅层、及钛、金膜;然后,将上、下基板的键合面对准并贴合后,送入键合机,升温至250~300℃,并施加0.2~0.4MPa的压力,...
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