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光栅高速直写装置

2014年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
一种光栅高速直写装置，其构成包括刻写光源、光束偏转器、fθ透镜组、离焦检测模块、光谱分光镜、调焦位移器、物镜、待刻样品、二维样品台和总控制器，本发明具有刻写速度快、面积大、可控性好的特点，能直接刻写出变占空比、变强度分布的一维光栅，具有广泛的用途。本发明旨在克服现有技术的不足，提供了一种光栅高速直写装置，该装置能高速刻写具有复杂一维结构分布的光栅，同时具备科研和生产两方面的用途，具有较高的...
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