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非磁氧化物薄膜的纳米磁性与介电性能的集成

2014年

基础理论

成果简介

　　非磁性氧化物薄膜中缺陷诱导的铁磁性（defect-induced magnetism，简称DIM）是本世纪初新发现的一类完全有别于传统铁磁体（Fe，Co，Ne等）磁性质的室温弱铁磁现象。本项目以HfO2/HfAlOx薄膜为研究体系，重点研究了其室温DIM特性及物理机制，并探讨了在同一个金属-氧化物-半导体（MOS）电容器结构中实现其可观的DIM饱和磁矩与良好介电性能共存的可能性。本项目实施三年...

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