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一种低粗糙度硅片碱腐蚀工艺

2014年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　本发明涉及一种低粗糙度硅片腐蚀工艺。
　　其步骤是：（A）、在高压水浴锅内配制碱腐蚀液后，设定准备温度为115℃至130℃；（B）、将装有研磨片的片蓝浸入碱腐蚀溶液中，关闭高压水浴锅上盖，加压至180-260Kpa，升温至145℃至160℃；（C）、碱腐蚀1至10分钟后，提升机械手；（D）、打开气阀进行放气至标准大气压后，打开高压水浴锅上盖，下载片蓝，浸入稀盐酸溶液内浸泡；浸泡后再...
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