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一种高纯钽溅射靶材的加工工艺

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本发明公开了一种高纯钽溅射靶材的加工工艺，将锻造开坯后的钽溅射靶材圆坯进行轧制处理，其特征在于，在轧制过程中每轧制一道次将轧制方向旋转１３５°后进行轧制，且道次压下量的弧厚比控制在２～３。总轧制道次需与弧厚比及总的形变量配合，总形变量为９０％。采用本发明提供的加工工艺，通过调整工艺参数，可将溅射面的晶粒尺寸控制在１００±２０μｍ，γ织构的含量可以控制在３０－６０％，随机织构含量可以控制在３...
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