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大面积超高精度光刻掩膜版

2005年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
光刻铬版是在高纯度石英或玻璃薄片上刻制设计好的线路图。它很好的将物理制程和化学制程结合起了，将掩膜版的精度提高到了一个以往传统工艺无法达到的高度。一直以来，中国作为社会主义国家受到西方国家的排挤，特别是在技术上面，光刻(lithography)技术作为敏感技术受到限制，导致我们与国外的技术差距较大。
我公司制出的这套生产超高精度铬版的生产工艺及检验方法，填补了国内在高精...
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