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超精密温度控制装置

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
围绕IC制造装备国家重大战略需求，针对光刻机部件超精密温度控制的技术目标，开展精密机械、传热学及流体动力学等协同创新研究，在基础理论、重大技术攻关及研发方面取得优秀成果。光刻机是超大规模集成电路制造的核心设备，包括曝光系统、工件台等诸多分系统，对内部环境温度的稳定性与均匀性要求很高，其中，光刻机投影物镜的温度控制是影响曝光线条质量的直接因素。从光刻机应用需求中提炼科学问题，掌握超精密温度控...
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