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全自动高产能卧式PECVD设备的研制

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
M82200-5/UM型全自动高产能卧式等离子体增强化学气相淀积（Plasma Extension Chemical Vapor Deposition，简称为PECVD）设备是主要针对晶体硅太阳能电池制造生产线而研发的关键工艺设备，也广泛适用于半导体行业制备钝化层、介电层、绝缘层等功能薄膜材料。利用高频电源来激发气体辉光放电形成等离子体，使得原来必须在高温条件下才能进行的化学淀积反应，可以...
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