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磁控溅射离子镀系列设备制造及镀膜产品开发

2012年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
一种磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，其特征在于该方法利用磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机，采取磁控溅射镀镍与多弧离子镀镀铬的复合式真空镀膜方法，包括预处理、装炉与离子轰击、镀制镍膜层、镀制铬膜层、出炉与后处理和停机六个步骤，在铜基底上镀制镍铬复合膜，能够实现被镀工件一次装炉完成镀制镍、铬两种膜层。本发明方法镀制的产品满足铜制水暖件防腐耐磨涂层的要求，可以替代传统的水电镀，消除由...
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