首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

热等静压法制作铬靶的研究

2012年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
热等静压法制作铬靶的研究项目是株洲冶炼集团股份有限公司2007年度科研开发项目之一，为自选项目，由公司下属新材料事业部主要承担研发工作。
铬靶是现代电子和IT行业最重要的镀膜材料之一，使用高纯铬靶材镀膜的产品非常多，如液晶显示器、硬盘驱动器、低发射率玻璃和汽车反光镜、集成电路、半导体功率器、光学器件、刀具、X射线管中及民用建筑玻璃。热等静压（HIP）法制作铬靶的基本原理...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统