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金刚石抛光液

2005年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本课题研究是自选项目，选题正确合理。随着科技的迅速发展，光电子、计算机等行业对晶体元件的抛光要求也越来越高。抛光液是机械抛光技术中关键要素，其性能直接影响抛光后的表面质量。目前国内硬盘、晶体加工的抛光液全部依赖进口，且最终表面粗糙度（Ra）均较大，如0.4～0.5nm；而用本课题研制的型号为DP Ⅳ-10的纳米金刚石抛光液抛光得到的最终表面粗糙度（Ra）仅为0.1～0.3nm。用1μm的金...
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