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可见光区（380nm～780nm）宽角度减反射光学薄膜的制备工艺研究

2012年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
1.主要研发内容
本项目的研究范围包括斜角蒸镀的工艺研究，低折射率材料制备工艺研究，减反射光学镀膜工艺研究。
本项目的主要内容是利用电子束蒸发斜角蒸镀工艺，在基底上形成多孔的纳米柱阵列膜层，得到基底与空气折射率之间的折射率材料，并通过调整蒸镀斜角调整材料折射率，蒸镀一系列渐变折射率膜层后，得到可见光区（380nm～780nm）宽角度的减反射光学薄膜。...
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