首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

高平整度区熔硅抛光片的抛光工艺

2012年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　高平整度区熔硅抛光片的抛光技术，是针对现有工艺的情况，采用不同的技术对硅片的表面抛光，使抛光片几何参数水平高于现有技术的水平，获得高平整度硅抛光片，通过对4英寸、5英寸、6英寸区熔硅片进行有蜡抛光来生产高平整度硅抛光片，其特征在于，所述方法包括以下次序的工艺步骤：
　　（1）提高有蜡抛光系统中贴蜡机内的洁净级别，将有蜡抛光系统中的贴蜡机内部与1000级大洁净室隔离开，贴蜡机内部单独...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统