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一种高耐压碳化硅光导开关

2011年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　本发明涉及一种高耐压碳化硅光导开关，属于半导体器件制备技术领域。光导开关采用相对面型设计，在经处理后的碳化硅抛光片的两面制作欧姆接触，形成两个电极。这种相对面型碳化硅光导开关可以成倍地提高开关的耐压能力，使光导开关的体积得以缩小，为光导开关的集成化创造条件，可用于半导体器件领域。...
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