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高速多光束并行激光直写装置

2011年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置，由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成，本发明提供多光束激光并行高速刻写，大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要，将多光束的刻写子系统与不同运动方式的样品台组合成具有不同功能的刻写装置。...
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