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分子印迹技术色谱拆分间尼索地平药物的应用研究

2011年

应用技术

初期阶段

成果简介

　　一、技术关键
合成高识别性能的间尼索地平分子印迹聚合物的条件及制备药物印迹聚合物电极的条件和工艺。
　　第一、对合成间尼索地平聚合物的条件及工艺流程进行了探讨。对合成温度、制孔剂、交联剂、功能单体的选择和性能进行了考察。得到了制备聚合物的最佳条件，合成温度为60℃，功能单体为甲基丙烯酸，交联剂为三乙二醇二甲基丙烯酸酯（TGDMA），引发剂为偶氮二异丁腈。模板分子...

分子印迹技术色谱拆分间尼索地平药物的应用研究

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