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0.13-0.10微米标准CMOS关键工艺技术模块开发

2010年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
此项目是0.18微米CMOS工艺技术开发项目的后续项目，因此，在2002年完成0.18微米CMOS工艺技术开发的基础上，上海集成电路研发中心继续派遣工程师到比利时IMEC，并作为0.13～0.10微米工艺技术开发的主力军，独力或与IMEC的工程师们合作，提前开发完成了0.13～0.10微米技术的关键工艺模块。基于在0.18微米CMOS工艺技术大生产转移中获得的经验，在0.13微米技术的开发...
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