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一种晶片清洗干燥架

2010年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
本实用新型涉及一种晶片清洗干燥架，包括基座、方槽和通孔，基座沿竖直方向切去一部分作为定向面，方槽开在基座上表面，通孔连接方槽，方槽最宽面与基座的定向面平行。本实用新型的晶片清洗干燥架能保证整个晶片得到有效的清洗，并且不会在沸煮过程中发生晶面的翻转；通孔的设置使清洗过程中方槽内的清洗液体能有效流动，避免了清洗下的颗粒沉积在方槽内对晶片产生二次污染，同时，在清洗结束时能让清洗液体快速流出方槽；...
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