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器件级纳米硅薄膜的高压阻效应及其力学行为研究

2010年 基础理论
  • 成果简介
本项目的主要研究内容是基于薄膜生长动力学原理，改进等离子体增强化学汽相沉积（PECVD）系统；采用不同的反应气体和参数，减少等离子体中高能粒子直接对衬底和生成膜表面的轰击，制备器件级纳米硅薄膜；器件级纳米硅薄膜的表征，以及其高压阻效应的研究、与制备工艺的关联；器件级纳米硅薄膜的力学行为研究，为介观机械工程应用提供依据；器件级纳米硅薄膜的微加工工艺研究，使其尽可能与硅微加工工艺兼容。
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