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等离子体增强化学气相淀积设备

2010年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

等离子体增强化学气相淀积（Plasma Extension Chemical Vapor Deposition，简称为PECVD）设备主要应用于太阳能电池制造、集成光电子器件介质SixNy膜以及SiO2的制备等领域，是一项利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。由于等离子体的激发作用，使得原来必须在高温下才能进行的淀积反应，可以在较低的温度（400℃以下）进行，有...

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