首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

低温等离子体清洗技术与设备

2009年 应用技术
  • 成果简介
表面超清洗的理想技术和工具，是一种小型化、非破坏性、干式、环保型的超清洗设备。等离子体清洗器采用气态介质作为清洗剂，有效地避免了液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染和水资源的消耗。短时间的清洗即可有效去除有机污染物，还可改变材料表面性能。可应用于清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片、光学镜片、电子显微镜片等。去除光学元件、半导体元件、印刷线路板、晶体、宝石等元器件表面的光阻物质...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统