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薄膜太阳能电池连续制备设备

2009年 应用技术
  • 成果简介
1.铜铟鎵硒薄膜太阳能电池共蒸发-磁控溅射生长系统主要技术指标：进样室采用手动开门关门，一次可以放置六块样品；样品为玻璃，尺寸为100×100×3mm；溅射室一次可以放置一块样品。
2.碲化镉太阳能电池镀膜设备主要技术指标：溅射室：经烘烤6小时左右并连续抽气，极限真空优于6.6×10-4Pa；进出样室：极限真空优于3×10-2Pa；真空室全部为矩形线列排布的全不锈钢结构...
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