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磁控溅射及多弧镀膜靶材

2008年 应用技术
  • 成果简介
一、内容简介
铬靶主要用于磁控溅射镀茶色玻璃。由于铬的熔点高（约1800℃），铸造很困难，大多采用粉末烧结法，价格昂贵。中国科学院金属研究所采用均质合金特种冶炼技术，用铸造方法批量生产，降低了成果，并保证致密、杂质少，纯度高（＞99.3%）。
Ti-Al合金靶材是多弧离子镀（Ti，Al）N薄膜的核心材料，要求其成分均匀，纯洁度高、致密。（Ti，Al）N薄膜较...
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