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高能级脉冲磁控溅射制备纳米材料技术研发

2009年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
  本项目采用高能级磁控溅射沉积技术制备TiAlBN纳米材料。其特点是在磁控溅射沉积TiAlN膜的同时,用具有一定能量的B离子束进行轰击改性,控制沉积粒子的晶粒生长,不形成微米组织,从而大大改善了膜与基体的结合强度,并形成致密的纳米级组织结构。TiAlBN纳米材料性能:厚度 6~30μm、硬度 HV≥3000kg/mm^2、中性盐雾试验≥1000h、摩擦系数≤0.1、沉积速度:>15μm/h。 <...
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