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纳米测量机在半导体制造领域的应用

2009年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
随着现代超大规模集成电路制造业、数据存储工业、以及微机电系统技术的不断发展，半导体工业产生了诸多新的测量领域，原有的测量需求也不断提高，如半导体生产线中用来校准仪器的纳米尺寸样板（台阶、线宽、线间隔等）的可溯源测量，半导体工艺中对晶元的几何尺寸精确测量，微机电系统技术(MEMS)中零部件的检测等。上述需求使得需要检测的半导体器件特征尺寸和与之关联的公差不断减小，而其形状结构复杂程度却不断增...
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