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一种减小相变存储器写入电流的单元结构的改进及方法

2009年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
本发明涉及一种减小相变存储器工作电流的单元结构上的改进及其实现方法,属于微电子领域。其特征在于:在加热电极与硫系化合物之间加入一层过渡层,过渡层厚度为10nm-50nm。过渡层材料要求是电阻率比加热电极高,且熔点高于硫系化合物。可选择的有Pt,Ti,TiN等。其结构的改进的实现是采用溅射方法沉积底电极,在沉积一层电介质层,通过曝光刻蚀方法刻蚀小孔,依次沉积加热电极和过渡层,再在其上沉积电介...
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