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最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺

2009年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　纳米技术正如火如荼的展开，在微电子工艺中，最小线宽已经到了0.09um，即90nm。目前工业界普遍采用的制备纳米图形的方法是Spacer技术，而在科学研究中电子束曝光也有较大的应用。Spacer技术中，先后采用PECVD（离子增强化学气相沉积）和RIE（反应离子刻蚀）来制备出纳米线条和图形， Spacer技术很大程度上解决了工业中制备纳米图形的难题，但是其工艺相当复杂，成本自然很高。而电子束曝...
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