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薄膜电阻器、薄膜集成电路用磁控溅射靶材产业化科技攻关

2009年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
1.研制出2块高阻靶材，靶材光滑、平整、无缺陷。尺寸382mm×128mm×12mm，可取代进口的高阻靶材。2.研制出一台新型的磁控溅射镀膜机，该设备的主要特点是：①专门设计了能让每个基体均匀翻滚的专用滚筒和转动系统；②设计了小电流恒流源，保持长时间溅射电流稳定输出。3.研制出一台高温热处理炉，其特点是，各处温度分布均匀一致。...
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