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无显影气相光刻的机理研究

1999年

应用技术

成果简介

光刻是微电子和微机械及国防尖端等高新技术的核心技术。无显影气相光刻(DFVP)是近年我国发明的独树一帜的光刻技术，但它是由一个偶然的发现的现象而发展起来的，由于缺乏理论的指导，该技术的发展并没有预期的那么迅速，在学术上也很难得到国际上的认可。DFVP技术机理研究是原始创新性的基础理论研究，是化学特别是高分子化学与光刻技术交叉的研究。DFVP是建立在光致诱蚀剂浓度差基础上新的光刻技术，而传统...

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