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金/铁系元素复合膜上制备碳纳米管

2004年 应用技术
  • 成果简介
该成果首先在Si或SiO_2衬底上溅射铁或钴或镍层,再溅射金层,制备出复合膜的催化剂;再将衬底置于热丝CVD设备中,以氢气和甲烷为反应气体,衬底温度为600~950℃,气体压力为12-30Tor,生长时间为10-120min;或在金/铁系元素复合膜上放置挡片,使氢气与甲烷的气体流量比为H_2:CH_4=100:(1~100);或不放置挡片,使H_2:CH_4=100:(7.5-100)。该成果能制...
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