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TFT-LCD生产工艺技术改进

2008年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

本项目中我们在工艺和设计方面进行了改善，有效地解决了产线上的各种不良。本项目中的4项改善方案的实现，不但提高了我公司产品的合格率，而且可以使目前我公司薄弱的TFT-LCD量产技术得到提高，为广电集团与国家今后的TFT-LCD产业发展战略、生产以及研究与开发方面提供宝贵的技术与经验。
(1)C-DE模式的G断；
(2)a-Si残留模式的点缺陷；

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