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磁控溅射（薄膜电池用）设备

2007年

应用技术

成果简介

　　采用平面磁控溅射靶技术在玻璃基板上成膜，可以提高镀膜的效果和效率。控制系统采用PC+PLC自动控制，配备高精度的磁控电源、气体流量和速度控制，自动化程度高，操作简便，性能稳定，主要用于透明导电薄膜(SnO_2、ZnO、ITO)和背电极铝、钼、铜铟锡(CIS)薄膜等的溅射沉积。
　　市场预测：
　　根据Solarbuzz最新数据，07年全球光伏系统装置容量达2826MW，...

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