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硫系化合物相变材料化学机械抛光纳米抛光液及其应用

2008年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
用于硫系化合物相变薄膜材料GexSbyTe(1-x-y)化学机械抛光（CMP）的纳米抛光液及利用化学机械抛光制备纳电子器件相变存储器的方法。该CMP纳米抛光液包含有氧化剂、螯合剂、pH调节剂、纳米研磨料、抗蚀剂、表面活性剂及溶剂等。该抛光液损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境，主要用于制造相变存储器关键材料GexSbyTe(1-x-y)的CMP。利用上述抛光液采用化学机械抛光方法去除多余...
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