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低辐射自洁净玻璃产品开发及其生产工艺的研究

2008年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
目前国内外生产低辐射玻璃多采用磁控溅射技术和化学气相沉积（CVD）技术制备，磁控溅射技术属于离线技术，其制备的低辐射膜以银膜为主，这种膜层易受大气侵蚀而必须做成中空玻璃使用，其设备投入及生产成本都较高；化学气相沉积制膜技术制备的膜层为金属氧化物膜，但由于其所用原料气为有机高纯气，生产成本较高，因此这种制膜技术成本也较高。自洁净功能薄膜方面的技术主要为溶胶凝胶法和化学气相沉积的方法。从工艺特...
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