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多羟多胺新螯合剂在微电子技术中的应用

2008年

应用技术

成熟应用阶段

成果简介

“多羟多胺新螯合剂在微电子技术中的应用”属于国家中小企业创新基金项目“FA/O抛光液及其抛光技术”的延伸项目。
随着微电子技术向180 nm、130 nm、100 nm、90 nm、65 nm、45nm及其以下16nm的技术节点方向发展，晶片表面达到光刻要求的平坦化关键技术与关键材料--CMP浆料及清洗剂已成为制约集成电路发展的关键核心技术。而研制一种新型多功能的CMP...

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