首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

计算机硬盘基片抛光率的控制方法

2008年 应用技术
  • 成果简介
用于计算机硬盘基片化学机械抛光的CMP抛光液：SiO_2磨料粒径小（20～50mm）、浓度高（＞40%）、硬度小（对基片损伤度小）、分散度好；PH值大于9.0，对设备钝化作用，避免酸性抛光液抛光中易产生的塌边现象的发生，解决了酸性抛光污染重、易凝胶的诸多弊端，对操作人员也不会产生伤害；采用了多种有利环境保护措施，废液可以完全被现有的污染处理设备消化，不对环境造成影响；活性剂的使用增加了高低...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统