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非制冷微测辐射热计红外探测器列阵研制

2002年

应用技术

初期阶段

成果简介

项目研究采用溅射V_20_5薄膜再还原退火制备VO_x热敏薄膜的技术方法，制备出了TCR较高的VO_x热敏薄膜，这是项目研究的一个重要进展。这一方法与国外有较大不同（国外采用的是反应溅射方法）。由于这种方法对设备要求相对较低，更加适合国内非致冷焦平面研制。项目研究基本解决了采用牺牲层的微桥加工方法，奠定了硅非致冷焦平面研制，同时也可应用于其他微结构红外光电器件的研制，如MOS电阻阵红外目标...

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