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无栅等离子体源

2007年 应用技术
  • 成果简介
本实用新型发明属于等离子体技术中的一种辅助镀膜装置。这种等离子体源可与大型光学镀膜机配套，或对现有光学薄膜镀膜机进行改造，用于在各种基片（包括树脂眼镜片）上制备各种单层或多层氧化物光学薄膜。GIS无栅等离子体源可以满足生产大面积高质量光学薄膜的需要。该发明为我国在生产大面积高质量薄膜方面解决了重要的技术问题，提供了关键的设备。其主要性能指标已达到或接近国际同类产品的先进水平。该发明已获国家...
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