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纳米抛光液产业化关键技术

2007年

应用技术

成果简介

随着半导体工业的飞速发展，化学机械抛光逐渐成为集成电路制造中的一项关键工艺，其中抛光液是CMP过程中重要的消耗品，长期以来国内主要硅材料厂及IC厂依赖进口，不仅价格昂贵，而且受制于人。中科院上海微系统所纳米技术研究室CMP小组开展了“纳米抛光液产业化关键技术”研究，致力于解决纳米磨料的制备技术、纳米磨料的纯化技术、抛光液配制技术、抛光液的应用技术等。结合国际CMP抛光液胶体二氧化硅的主流市...

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